出水量0.25-100噸
工作壓力0.5-1.2MPa
出水水質10-0.055ux/cm
加工定制定制
規格型號PJ-RO-EDI-2000
是否進口否
工作原理反滲透/凈水
全自動控制全自動
用途范圍醫院、食品廠、化工廠、紡織廠等
壓力常壓
工作溫度0-40℃
除鹽率99%
適用水源各類地表 地下水
水質:出水水質>15MΩ.cm
用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準,分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區分不同水質。 超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
半導體(semiconductor),指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多,按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導體;化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物:化、磷化等;Ⅱ-Ⅵ族化合物:、化鋅等;氧化物:錳、鉻、鐵、銅的氧化物,以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體:鋁、磷等。除上述晶態半導體外,還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。
光電材料生產、加工、清洗;液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
半導體超純水設備,超純水設備,超純水處理設備,我們公司生產反滲透+EDI超純水設備,有多年的生產經驗,做過各行業的水處理設備,水處理方面我們有豐富的經驗。


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